第二屆國際PROLITH光刻仿真技術研討會在北理工召開
發布日期：2014-04-25 供稿：光電學院 馬旭 攝影：新聞中心 斯君
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北京理工大學周立偉院士、光電學院薛唯院長、郝群書記、許廷發副院長、趙長明副院長等出席了會議。中國和美國相關企業、科研院所和高校的光刻技術領域的專家、學者40余人參加了會議。會議由Anchor Semiconductor 公司副總裁Kenneth Wang主持。首先，光電學院院長薛唯教授致開幕詞。隨后，光電學院李艷秋教授委托馬旭教授匯報了三方合作協議框架下的研究工作進展，介紹了先進光刻仿真技術的研究成果和人才培養方面的最新合作進展。重點介紹了北京理工大學在嚴格矢量光刻成像及分辨率增強技術、多參數協同優化技術等方面取得了國際領先的科研成果，建立了國內首款“集成光刻仿真軟件平臺”和國內首套“光刻模擬研究和分析數據庫”。
KLA-Tencor公司高級主管Patrick Lee先生和技術主管Stewart Robertson先生等為大會做了5項報告，介紹了該公司及其合作伙伴在先進光刻仿真、光刻工藝研發、光刻設備評估和驗證等領域的最新研發進展。最后，北京理工大學為來賓提供了專業PROLITH軟件應用基礎培訓，KLA-Tencor主管Patrick Lee為北京理工大學頒發了培訓證書。
會議期間，參會者進行了充分的技術交流。會后，部分來賓參觀了李艷秋教授課題組的光刻仿真實驗室和高分辨成像及檢測技術實驗室。本屆會議進一步擴大了中國光刻仿真技術在國際相關領域的影響，促進了中美兩國在該技術領域的深入合作，也為我校今后開展國內外產、學、研實質性合作及人才培養奠定了重要基礎。
